EUV 光罩护膜（Pellicle）是光罩上的薄膜，维护光罩免于微尘或挥发性气体的污染，使 EUV 顺畅传输。光罩护膜也是 EUV 曝光时的要害零件，意图是添加芯片出产良率，削减光罩运用时的清洁和查验。
三星今年初宣称已开宣布透光率达 88% 的 EUV 光罩护膜，且这款产品已能量产，而Kang 表明三星 EUV 护膜透光率再度添加，抵达 90%。其间，透光率 90% 的意思是只要 90% 进入薄膜的光线能抵达光罩，这可能会影响电路图画的精度。这比更常见的氟化氩（ArF）制程中运用的薄膜透光率（99.3%）还低。
当 EUV 光罩护膜在 250 瓦光源下操作时，每平方公分会发生的 5 瓦热量，导致温度高达 680℃ 以上，因而除了下降光源阑珊外，还一定要处理光罩护膜在 EUV 过程中遇到的翘曲或开裂等散热问题。
据报道，三星已首要客户的部分先进 EUV 代工出产线上导入 EUV 光罩护膜。尽管三星也在 DRAM 出产线中选用 EUV 制程，但考虑到出产率和本钱，该公司以为即便没有光罩护膜也可以直接进行存储器量产。
EUV 光罩护膜现在有艾司摩尔（ASML）、三井化学（Mitsui Chemicals）、信越化学、S&S Tech、FST 等业者跨足，但据 Kang 泄漏，三星并没用韩国国内供货商供给的 EUV 光罩护膜，而是与日本三井化学协作，为仅有供货商。
尽管 FST 和 S&S Tech 等韩国公司正活跃开发 EUV 光罩护膜，但还没完成量产。相比之下，台积电早在 2019 年开始运用自行开发的光罩护膜，并已在 7 奈米以下制程的出产线运用。
