金融界2024年10月30日音讯，国家知识产权局信息数据显现，南通海星电子股份有限公司请求一项名为“一种低压腐蚀箔化成工艺”的专利，公开号CN 118835293 A，请求日期为2024年9月。
专利摘要显现，本发明触及化成箔技术领域，详细触及一种低压腐蚀箔化成工艺。本发明的低压腐蚀箔化成工艺，包含以下过程：一次化成处理、钝化处理、二次化成处理、钝化处理、热处理、三次化成处理、水洗、枯燥。经过本发明的化成工艺得到的铝箔，在确保了铝箔容量及电压处于正常水平的一起，也使得铝箔的耐水合功能得到提高，进一步减少了水分浸透，降低了漏电流，延长了惯例运用的寿数，在信息电子设备、外表设备、机电设备及家用电子科技类产品中能取得广泛应用。
